KRi 射頻離子源應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
上海伯東某客戶為精密光學鍍膜產品生產商, 生產過程中需在白玻璃上進行鍍膜. 由于國產鍍膜設備在射頻和光控性能方面的限制, 鍍制過程易出現溫漂現象, 材料折射率不高, 品質無法保證; 且工藝上需要加熱, 這大大增加了鍍膜時間. 經過伯東推薦選用國產鍍膜機加裝美國進口 KRi 射頻離子源進行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產效率.
紅外截止濾光片是一種用于過濾紅外波段的濾鏡, IRCF 利用精密光學鍍膜技術在白玻璃, 藍玻璃或樹脂片等光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜, 其可通過實現近紅外光區截止以消除紅外光對成像的影響, 是高性能攝像頭的必備組件, 工藝上對所用的鍍膜設備有著極高的要求.
KRi 射頻離子源應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
應用**域: 光學鏡頭
薄膜工藝: IR-CUT
產品類別: 紅外截止濾光片
應用方向: 國產鍍膜機加裝 KRi 射頻離子源進行離子清洗和輔助沉積, 實現 IR-CUT 單面鍍膜
美國 KRi 考夫曼品**射頻離子源通過輔助鍍膜在白玻璃 IRCF 上進行工藝升級, 解決溫漂問題, 上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數：
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型號 |
RFICP 40 |
RFICP 100 |
RFICP 140 |
RFICP 220 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
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離子束流 |
>100 mA |
>350 mA |
>600 mA |
>800 mA |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
4 cm Φ |
10 cm Φ |
14 cm Φ |
20 cm Φ |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
3-10 sccm |
5-30 sccm |
5-30 sccm |
10-40 sccm |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
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長度 |
12.7 cm |
23.5 cm |
24.6 cm |
30 cm |
39 cm |
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直徑 |
13.5 cm |
19.1 cm |
24.6 cm |
41 cm |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域.
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