MoN薄膜是一種具有潛在應(yīng)用價(jià)值的薄膜材料, 但對(duì)于其結(jié)構(gòu)和性能的研究還較少. 因此，廣州某研究機(jī)構(gòu)采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 在 304 不銹鋼基體表面濺射沉積 MoN薄膜, 系統(tǒng)研究了 MoN 薄膜在不同摩擦條件下的摩擦磨損行為.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量

結(jié)果表明:

偏壓顯著影響直流磁控沉積的 MoN 薄膜的晶相結(jié)構(gòu)、表面形貌、斷面結(jié)構(gòu)、硬度和摩擦磨損性能;隨脈沖偏壓的增大, MoN 薄膜的膜厚、硬度都**增大后減小, 而薄膜的磨損率卻**減小后增大, 其中 -500 V 脈沖偏壓下沉積的 MoN 薄膜具有**高硬度為 7731 N/mm~2, 以及**低的磨損率為 5.8×10~(-7)mm~3/(N·m).  此外, MoN 薄膜在不同載荷和轉(zhuǎn)速的摩擦條件下表現(xiàn)出不同的摩擦學(xué)行為.
 

KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

因此, 該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質(zhì)譜儀,  真空計(jì),  美國(guó) KRI 考夫曼離子源,  美國(guó)HVA 真空閥門(mén),  美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī),  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論,  請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅**生                               臺(tái)灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權(quán)所有,  翻拷必究!