上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實(shí)現(xiàn)小規(guī)模試驗(yàn)中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無(wú)污染, 滿(mǎn)足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.
KRi 考夫曼離子源 KDC 40 預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)
去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩?br />
去除化學(xué)吸附污染: 去除天然和粘合材料. 如表面氧化物, 通常去除 < 100Å
提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.
數(shù)據(jù)來(lái)源: 美國(guó) KRi 原廠資料
KRi 考夫曼離子源 KDC 40 技術(shù)參數(shù)
上海伯東美國(guó) KRi 小型低成本直流柵極離子源 KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級(jí)款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)固, 可以配置自對(duì)準(zhǔn)第三層?xùn)艠O. 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 提供低濃度高能量寬束型離子束.
KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮?dú)? 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 65 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 140 mA.
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型號(hào)
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KDC 40
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陽(yáng)極
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DC 直流
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陽(yáng)極功率
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100W
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**大離子束流
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>100mA
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電壓
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100-1200V
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氣體
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惰性和反應(yīng)氣體
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進(jìn)氣流量
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2-10sccm
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壓力
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<0.5m Torr
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離子光學(xué)(自對(duì)準(zhǔn))
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OptiBeamTM
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離子束直徑
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4cm Φ max
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柵極
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鉬和石墨
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離子束形狀
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聚焦, 平行, 散射
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高度
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16cm
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直徑
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9cm
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上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶(hù)生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專(zhuān)利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域.
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